PACVD，即离子加强化学气相沉积，是一种在高度真空环境下，利用辉光放电或另加发热体使工件升温到预定温度，然后通入适量的反应气体，气体经一系列化学反应和等离子体反应，在工件表面形成固态薄膜的技术。该技术利用低温等离子体（非平衡等离子体）作能量源，工件置于低气压下辉光放电的阴极上，由于辉光放电产生的粒子间的碰撞，产生剧烈的气体电离，使反应气体受到活化，同时发生阴极溅射效应，为沉积薄膜提供了清洁的活性高的表面。

温度低于 200 ℃的情况下，沉积极度光滑，粘着性能好的无定形金刚石硬质合金涂层。相对 PVD 工艺， PACVD 工艺应用深镀电源，无需阴极靶材，同时工件在炉膛中无需旋转，该工艺为干净无污染，可靠，和多性能的涂层工艺。 PACVD 又叫 PECVD 。

在PVD过程中，涂层材料是从固体形式蒸发得到；而在PACVD过程中，涂层是从气体形式得到，气体，如HMDSO（六甲基二甲硅醚）在等离子体作用下，大约200 ºC时发生裂解，非反应气体，如氩气，可以使离子沉积到工件表面并形成很薄的涂层，类金刚石（DLC）涂层就是PACVD技术制备的很好的例子，通常应用于摩擦学和汽车行业。借助此工艺，我们可以在约 200 °C 的低温下使用脉冲辉光或高频放电进行沉积，用 PACVD 生成的类金刚石涂层具有摩擦系数低和可扩展的表面硬度特性。