PVD( Physical Vapor Deposition物理气相沉积或真空镀膜)是指在真空条件下，采用低电压，大电流的电弧放电技术，使金属靶材蒸发并使被蒸发物质与气体都发生电离，在产品表面形成一层1-10μm的超硬薄膜，是新技术表面处理领域的一项尖端技术。这种超硬PVD涂层薄膜因其在真空密封的腔体内成膜，故几乎无任何环境污染问题，是绿色环保技术; 可以轻松得到其他方法难以获得的高硬度、高耐磨性的陶瓷涂层、复合涂层，应用在工具、模具、零件上面，可以使寿命成倍提高，较好地实现了低成本、高收益的效果; 此外，PVD 涂层技术具相对低温的特点，可以在大部分基材上成膜。

PVD(物理气相沉积)镀膜技术主要分为三类：真空蒸发镀膜、真空溅射镀膜和真空离子镀膜。

科汇使用的劈裂电弧是比传统电弧使用更高的电流，提高靶材的蒸发速度；通过磁场对电流的科芝，使电流在整个靶材表面运动，减少平均电流（A/mm²），从而减少液滴，改善涂层质量。

全新的swiss-Prof 方案：劈裂电弧

劈裂电弧：400A or 800A 劈裂电弧技术（靶材使用率：60% or 75%左右）

传统电弧：200A，强力磁性电弧控制（靶材使用率：30%左右)

涂层结构